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  PtCu-YS,PtCu-YS-Mn和PtCu-YS-C:二氯乙烷廠家催化劑的A及A:均遠(yuǎn)高于商業(yè)Pt/C二氯乙烷廠家催化劑，其中PtCu-YS的A和A:分別為每毫克鉑0. 506 A和1. 03 mA/cm2,是商業(yè)Pt/C二氯乙烷廠家催化劑的4. 8倍和6. 4倍。二氯乙烷廠家催化劑氧還原活性的大幅提升得益于高氧還原活性晶面的暴露。此外，PtCu-YS二氯乙烷廠家催化劑結(jié)構(gòu)中的空腔可以作為電化學(xué)反應(yīng)的容器，同時(shí)暴露出Pt外殼與PtCu內(nèi)核上的活性位點(diǎn)，提高R原子利用率，進(jìn)而提高其氧還原活性「33]，以此可以解釋雖然“蛋黃蛋殼”二氯乙烷廠家催化劑粒徑較大，但依然可以保持較高氧還原活性的現(xiàn)象。PtCu“蛋黃蛋殼”結(jié)構(gòu)二氯乙烷廠家催化劑經(jīng)過(guò)表面修飾后，晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，氧還原活性略有降低。PtCu-YS-Mn二氯乙烷廠家催化劑的A和A:分別為每毫克鉑0. 433 A和1. 02 mA/cm2, PtCu-YS-C:二氯乙烷廠家催化劑的A和A:分別為每毫克鉑0. 235 A和0. 49 mA/cm2 ,結(jié)合X射線衍射的表征結(jié)果可以推斷，表面修飾后Pt (2 2 0)晶面消失，說(shuō)明對(duì)二氯乙烷廠家催化劑進(jìn)行表面修飾改變了二氯乙烷廠家催化劑的晶體結(jié)構(gòu)，改變了二氯乙烷廠家催化劑表面R原子的電子結(jié)構(gòu)和表面電子分布，影響吸附在二氯乙烷廠家催化劑表面的氧分子和中間體和吸附能，導(dǎo)致氧還原基元反應(yīng)的反應(yīng)熱發(fā)生改變，從而降低反應(yīng)動(dòng)力學(xué)速率，導(dǎo)致氧還原活性下降，這一點(diǎn)在隨后的D FT計(jì)算中也得到了證明。值得注意的是，雖然經(jīng)過(guò)表面修飾后的二氯乙烷廠家催化劑的氧還原活性有所下降，但仍遠(yuǎn)大于商業(yè)Pt/C二氯乙烷廠家催化劑。相較于PtCu-YS-Cr,PtCu-YS-Mn具有更高的氧還原活性，本研究選取PtCu-YS-Mn以及未經(jīng)修飾的PtCu-YS二氯乙烷廠家催化劑進(jìn)行加速衰減測(cè)試。PtCu-YS ,PtCu-YS-Mn和商業(yè)Pt/C二氯乙烷廠家催化劑的3000圈加速衰減測(cè)試結(jié)果。http://llcbhqw.cn